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第172章 系统优化与模拟测试（第2页）

小王指着屏幕上的一段代码说：“我觉得这个地方可能存在数据溢出的风险，我们需要对数据类型进行更加严格的定义。”

张教授点头表示同意：“没错，而且我们还要考虑到多线程并发情况下的数据一致性问题。

我们可以采用一些同步机制来确保数据的正确性。”

他们开始对算法进行逐行的审查和优化，不断地进行测试和验证。

经过几个小时的努力，终于找到了计算错误的原因，并成功地进行了修复。

与此同时，姜老的团队和专家教授团队一起，对光刻机的硬件参数进行了精细的调整。

他们通过反复的实验和测量，确定了最佳的参数设置。

姜老看着仪器上稳定的数据，脸上露出了满意的笑容：“现在硬件和控制系统的配合更加默契了，我们的努力没有白费。”

技术部的成员们则在模拟测试环境中忙碌着。

他们设计了各种复杂的测试场景，包括不同的光刻工艺、不同的工作负载等。

小李一边操作着测试设备，一边对同事说：“我们要尽可能地模拟实际生产中的各种情况，这样才能发现系统的潜在问题。”

经过一天的努力，系统优化和模拟测试工作取得了显着的进展。

当夕阳的余晖洒在公司的大楼上时，林宇再次召集大家进行总结会议。

林宇看着大家疲惫但充满成就感的脸庞，欣慰地说：“今天大家都辛苦了。

通过大家的共同努力，我们在光刻机控制系统的优化和模拟测试方面取得了很大的进步。

但是我们不能松懈，因为我们还有很长的路要走。

我们要继续保持这种专注和努力，确保我们的光刻机控制系统能够达到世界领先水平。”

随着光刻机控制系统的开发进入关键阶段，整个公司都弥漫着紧张而又兴奋的氛围。

这一天，仿佛是命运的决战时刻，每个人都在为了最后的成功而奋力拼搏。

清晨，阳光柔和地洒在天宇科技的大楼上，林宇早早地来到了办公室。

他站在窗前，凝望着远方，心中思绪万千。

光刻机控制系统的开发已经到了最后的冲刺阶段，这不仅关系到公司的未来发展，更是对整个团队的一次重大考验。