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第209章 计算机辅助光刻掩膜工艺（第1页）

法国巴黎。

北郊维勒潘特展览中心工业博览会会场。

设在偏僻角落里的中国馆却是人声鼎沸，除了各国参展的客商，还有推波助澜的媒体记者，很多人都是抱着看笑话的心态在围观……

巴黎领馆负责接机的同志，把莫铮领到代表团团长宋予乔面前，给双方做了简单的介绍。

“莫总，您终于来了，你看现场乱的，头皮都要炸了……”

宋予乔顾不上寒暄，三言两语把情况做了介绍。

“走一步看一步吧！

国内光刻机方面的技术专家会很快赶过来！

我先过去看看……”

莫铮快浏览完光刻机展品的各项技术参数，已经挤到人群中央。

“天哪！

你们连光刻机的底层逻辑都不清楚，居然敢声称研出了全球最先进的光刻机……”

“他们连水稻都敢亩产几万斤，何况一台无法验证的光刻机？”

“也不能一概而论，或许中国人是出于技术保密的缘故呢？”

“艾达，你不会真的相信一个因为封锁禁运，长期与外界隔绝的国家，能够研出尖端的光刻机吧？”

“我觉得没有什么不可能，光刻机比原子弹还难吗？一个能够独立完成两弹一星的国家，研出来光刻机，有什么不可能的？”

…………

被围得水泄不通的展厅门口，多国语言此起彼伏，如同喧闹的菜市场。

莫铮好不容易挤到人群中央，使劲鼓了鼓掌，然后大声用英语说道：“各位业界同仁，以及媒体朋友，我叫莫铮，接下来就由我来回答大家的问题！

请提问者使用英文或者中文提问，使用其它语种的，请自备翻译……”

“莫先生，我是东京电子株式会社的商务代表小岛正雄，你能不能给我们介绍一下这台光刻机的各项性能？”

一名留着八字胡的日本人，用日语问道。

“这位先生，请您使用英语或者中文提问！”

代表团带来的翻译刚准备翻译，被莫铮摆摆手止住之后说道。

小岛正雄吃了个下马威，只能用英语，把刚才的提问重新复述了一遍。

“各位，这是中国华清大学自主研的gk-3型半自动光刻机，加工精度3微米，达到世界领先水平！

采用的是计算机辅助光刻掩模工艺……”

莫铮用流利的英文滔滔不绝的介绍道。

“纳尼？3微米的加工精度？这绝不可能！

连我们东京电子株式会社都没有达到！

你们怎么可能生产出这么高精度的光刻机……”

小岛正雄瞪大了眼睛质疑道。

“东电在日本也只是一个二流半导体设备企业，被尼康和佳能牢牢压制，生产不出来不是很正常嘛！”

莫铮轻描淡写的说道。