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第50章 这真是普通人类大脑能想出来的东西（第2页）

这次的实验过程，实在太过顺利了些，他总觉得缺少些什么，心里不踏实。

难道是过程太快？

陆隐闭目躺在椅子上，意识沉入脑海，在脑中一遍遍回想起关于1n光刻机的各种程序和步骤。

光刻机的演进过程十分复杂，但它的核心只围绕着三个定律。

一是摩尔定律。

简单来说，整个世界都是由“0”

和“1”

组成，而在芯片里，表示“0”

和“1”

的基本元件就是晶体管，晶体管越多，芯片的运算速度就越快。

摩尔定律的意思就是说，同样大小的芯片，每隔两年里面的晶体管数量就会增加一倍，同理，性能也会增加一倍。

这就要求芯片制造得越来越精细，如今市面上的芯片已经进化到，要求两个器件之间，只能有几个纳米的距离了。

通常来说，造小的东西，核心思想就是放大，举个例子，像用机械的放大，就像杠杆这类的机械机构原理，但在纳米级精度上，机械的方法却又不够用了，所以就启用了“光”

。

那么光又怎么放大？

其实很简单，投影！

像是我们日常生活中用到的投影仪，光刻机的核心就是造一个放大的，透光的模子，把想要的形状印在模子上，光通过模子照射在硅片上，这样就能制造出小尺寸的东西。

但因为技术瓶颈，这一项技术十年前就已经不用了。

目前世界上最先进的技术是“euv”

，这是郁金香国的asl公司用二十年研发出来的。

说到这，就会引出第二个定律，瑞利判据。

总的来说，光刻机的研发是个极其复杂且精细的过程，哪怕一点点纳米级错误，哪怕是一粒灰尘，都会让整个研发毁于一旦！